Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China se consacre à la recherche et au développement, à la fabrication et à la vente d'équipements pour semi-conducteurs haut de gamme et d'équipements pour l'ensemble des semi-conducteurs en Chine. Elle propose des équipements de gravure par plasma capacitif utilisés pour la gravure de matériaux diélectriques tels que l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium et les couches de film à faible coefficient diélectrique dans la fabrication de circuits intégrés ; des équipements de gravure par plasma inductif et des équipements de gravure profonde du silicium, utilisés pour la gravure du silicium monocristallin, du silicium polycristallin et de divers matériaux diélectriques dans la fabrication de circuits intégrés ; et des équipements MOCVD utilisés pour la gravure de trous et de tranchées, tels que les capteurs d'image CMOS, les puces MEMS, les puces 2.5D, les puces 3D, etc. L'entreprise fournit également des accessoires et des services aux entreprises de fabrication de circuits intégrés, de plaquettes épitaxiées pour LED, d'emballages avancés, de MEMS et d'autres produits semi-conducteurs. Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China a été fondée en 2004 et son siège social se trouve à Shanghai, en République populaire de Chine.