SAN JOSE, Californie - NVIDIA annonce aujourd'hui son partenariat avec Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) et Synopsys pour mettre en production sa plate-forme de lithographie computationnelle, NVIDIA cuLitho. Cette collaboration vise à accélérer le processus de fabrication des puces semi-conductrices avancées.
L'intégration de cuLitho de NVIDIA avec les systèmes de TSMC et de Synopsys devrait améliorer la fabrication des puces et prendre en charge les prochains GPU de l'architecture Blackwell de NVIDIA. Jensen Huang, CEO de NVIDIA, a déclaré que ce partenariat s'appuie sur l'informatique accélérée et l'IA générative pour faire progresser la mise à l'échelle des semi-conducteurs.
La lithographie informatique, élément essentiel de la fabrication des puces, est traditionnellement une tâche intensive du CPU, nécessitant de vastes ressources informatiques. NVIDIA affirme que l'utilisation de sa plate-forme accélérée par le GPU peut réduire de manière significative le temps et les ressources nécessaires à ce processus. Par exemple, 350 systèmes NVIDIA H100 pourraient remplacer jusqu'à 40 000 systèmes CPU, selon la société.
TSMC a fait état d'améliorations substantielles des performances, d'une augmentation du débit et d'une réduction des besoins en énergie grâce à l'intégration de l'informatique accélérée par le GPU dans leur flux de travail. C.C. Wei, CEO de TSMC, a déclaré que l'utilisation de NVIDIA cuLitho a été déterminante pour la mise à l'échelle des semi-conducteurs.
Synopsys a également bénéficié de cette collaboration, avec ses produits logiciels de synthèse de masque Proteus fonctionnant sur la plate-forme de NVIDIA pour accélérer les charges de travail de calcul. Sassine Ghazi, président et CEO de Synopsys, a souligné l'importance de ce partenariat pour permettre une mise à l'échelle au niveau de l'angström et réduire les délais d'exécution.
NVIDIA a introduit de nouveaux algorithmes d'IA générative qui améliorent encore la plate-forme cuLitho, en multipliant par deux les processus accélérés. Ce flux de travail piloté par l'IA permet de créer des masques inversés presque parfaits, ce qui peut rationaliser le processus de correction de la proximité optique (OPC).
L'intégration de cuLitho dans la production est un pas en avant pour répondre à la complexité croissante et aux exigences de calcul de la fabrication avancée de semi-conducteurs. Ce partenariat devrait faciliter le développement de nouvelles technologies pour les puces à l'échelle de 2 nm et au-delà.
Cette annonce est basée sur un communiqué de presse de NVIDIA.
Cet article a été généré et traduit avec l'aide de l'IA et revu par un rédacteur. Pour plus d'informations, consultez nos T&C.